Атомные механизмы диффузии и дефекты кристаллов
Кирсанов В.В.
Проанализирована роль дефектов кристаллического строения в диффузионных процессах, происходящих в твердых телах. Последовательно рассмотрены атомные механизмы диффузии, возникновение которых связано с появлением различных типов дефектов в кристаллах. Описано, как определяются такие диффузионные константы, как коэффициент диффузии, энергия активации миграции, в случае диффузии по дефектным местам кристалла. Приведены примеры ускорения диффузии за счет появления больших концентраций дефектов
Categorie:
Anno:
2001
Lingua:
russian
Pagine:
6
File:
PDF, 224 KB
IPFS:
,
russian, 2001
Litres
Vuole aggiungere una libreria? Contattaci su support@z-lib.fm
Converti i file
Più risultati di ricerca
Altri vantaggi 
Termini più frequenti
Liste di libri correlati
